硒化鋅和碲化鋅薄層的應力研究
dc.contributor | 陸健榮 | zh_TW |
dc.contributor.author | 李睿益 | zh_TW |
dc.date.accessioned | 2019-09-05T02:06:45Z | |
dc.date.available | 2004-7-31 | |
dc.date.available | 2019-09-05T02:06:45Z | |
dc.date.issued | 2004 | |
dc.description.abstract | 本論文利用電場調制反射光譜(ER)來研究ZnSe薄膜與ZnTe薄膜受應力之下輕電洞能帶與重電洞能帶分裂的情形。樣品是由分子束磊晶法(MBE)長成的ZnSe/GaAs和ZnTe/GaAs薄膜,以及ZnTe/ZnSe/GaAs量子點系統。首先透過計算可以得到薄膜在受完全錯位應力以及熱應力下輕、重電洞的能階分裂大小。再由實驗譜圖分析一階微分或三階微分擬合譜圖,並將各溫度下輕、重電洞能隙以擬合程式找出。探討薄膜厚度和溫度對應力釋放的關係。 | zh_TW |
dc.description.sponsorship | 物理學系 | zh_TW |
dc.identifier | G0069141018 | |
dc.identifier.uri | http://etds.lib.ntnu.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=id=%22G0069141018%22.&%22.id.& | |
dc.identifier.uri | http://rportal.lib.ntnu.edu.tw:80/handle/20.500.12235/102377 | |
dc.language | 中文 | |
dc.subject | 硒化鋅 | zh_TW |
dc.subject | 碲化鋅 | zh_TW |
dc.subject | 應力 | zh_TW |
dc.subject | 激子 | zh_TW |
dc.subject | 薄膜干涉 | zh_TW |
dc.subject | 電場調制 | zh_TW |
dc.subject | ZnSe | en_US |
dc.subject | ZnTe | en_US |
dc.subject | strain | en_US |
dc.subject | exciton | en_US |
dc.subject | electroreflectance | en_US |
dc.title | 硒化鋅和碲化鋅薄層的應力研究 | zh_TW |
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