學位論文
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Item 應用於腦電波量測之三維乾式電極製作技術開發(2007) 曾柏翔; Bo-Hsiang Tseng有鑑於近年來，腦電波雖然廣泛地應用於醫學臨床之診斷，與大腦人機界面系統，但其量測電極技術卻無顯著進步。故本研究提出一種新型腦波量測電極製造技術，利用微機電製程中，特有的矽基體型微加工技術、KMPR厚膜光阻微影、精密電鑄製程，並結合PDMS聚合物材料之選用。製造出於可撓曲基板上，擁有三維微探針陣列之乾式電極。有別於現今通用之銀/氯化銀電極，此新型量測電極，可於不需使用導電膠，且省略去角質等皮膚前處理的條件下，進行腦電波量測。 於實驗中，建立新型厚膜光阻KMPR 1050之相關製程參數，使得以一次旋轉塗佈的製程，便可得到厚度約130 um之光阻膜。配合KOH蝕刻、精密電鑄製程與本實驗所提出之二階段式光阻去除步驟，可製作出高度約170 um、寬為 50 um(深寬比為3.5)，且具出平面特性之微探針陣列。雖然此製程證明其製造上之可行性，但由於其製造良率低於50%。因此本研究中，提出三種改善良率之製程，藉以希望達到微機電製程中，特有的批次生產能力。Item 精密電鑄應用於微圖化耐高溫彩色濾光片製程開發(2006) 張峻銘摘 要 由於科技日新月異，輕、薄、短、小、精已成為產品主流趨勢，光電系統中的光學薄膜微圖化製程技術的需求也日益增加。在目前的顯示技術中，彩色濾光片微圖化製程，都是使用印刷、染料或顏料的塗佈技術，不過此技術的最大缺點是染料或顏料的耐熱度較低，工作時不能承受太高的溫度，這對使用高流明的顯示技術將是一大問題。且染料或顏料是以吸收可見光不同波段的方式來呈現色彩，這將會損耗較多的能源或需要更高流明的燈泡。再加上染料或顏料的色彩已固定，如果設計不同的顯示顏色需求，將必須重配染料或顏料的成份組成，這是一件很困難的工作。因此本研究鑒於這些缺點，將結合「黃光微影」、「精密電鑄」與「電子槍蒸鍍」技術，用以製作一微圖化可耐高溫的彩色濾光片，其具有高光穿透性、高解析度、色度純、化學穩定度高以及可耐高溫的彩色濾光片。這樣的製作方式與IC製程的相容性高，可以迅速地被加入相關產業應用，並用於投影機、光學偵測器或生醫檢測方面以及其他光學的應用。 實驗的結果證實以金屬取代厚膜光阻，當作薄膜製鍍時的金屬遮罩，用以定義光學薄膜的微圖案。並完成製鍍直條紋與馬賽克圖案排列，線徑寬度為20 m的R與B波段濾光片，以及量測薄膜的光穿透率，其平均穿透率 達90 %以上。証實了本研究所開發的製程，可成功製作微圖化的光學介質膜。 關鍵詞：彩色濾光片、黃光微影、精密電鑄、電子槍蒸鍍、光學偵測器