學位論文
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Item 精密電鑄應用於微圖化耐高溫彩色濾光片製程開發(2006) 張峻銘摘 要 由於科技日新月異,輕、薄、短、小、精已成為產品主流趨勢,光電系統中的光學薄膜微圖化製程技術的需求也日益增加。在目前的顯示技術中,彩色濾光片微圖化製程,都是使用印刷、染料或顏料的塗佈技術,不過此技術的最大缺點是染料或顏料的耐熱度較低,工作時不能承受太高的溫度,這對使用高流明的顯示技術將是一大問題。且染料或顏料是以吸收可見光不同波段的方式來呈現色彩,這將會損耗較多的能源或需要更高流明的燈泡。再加上染料或顏料的色彩已固定,如果設計不同的顯示顏色需求,將必須重配染料或顏料的成份組成,這是一件很困難的工作。因此本研究鑒於這些缺點,將結合「黃光微影」、「精密電鑄」與「電子槍蒸鍍」技術,用以製作一微圖化可耐高溫的彩色濾光片,其具有高光穿透性、高解析度、色度純、化學穩定度高以及可耐高溫的彩色濾光片。這樣的製作方式與IC製程的相容性高,可以迅速地被加入相關產業應用,並用於投影機、光學偵測器或生醫檢測方面以及其他光學的應用。 實驗的結果證實以金屬取代厚膜光阻,當作薄膜製鍍時的金屬遮罩,用以定義光學薄膜的微圖案。並完成製鍍直條紋與馬賽克圖案排列,線徑寬度為20 m的R與B波段濾光片,以及量測薄膜的光穿透率,其平均穿透率 達90 %以上。証實了本研究所開發的製程,可成功製作微圖化的光學介質膜。 關鍵詞:彩色濾光片、黃光微影、精密電鑄、電子槍蒸鍍、光學偵測器