學位論文

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    Ni-P-PTFE複合層化學鍍製備與其抗沾黏特性之研究
    (2012) 張明成
    鎳磷合金(Ni-P alloy)有優異的硬度(> 600 Hv)、耐磨耗及化學耐蝕性,已為機械、模具、汽車、光電及電子製造等領域廣泛的應用。聚四氟乙烯(鐵氟龍) (poly-tetra-fluoro-ethylene, PTFE)亦具有優異之自潤滑性(摩擦係數極低)、表面抗粘黏性、超疏水自潔性、耐腐蝕性、絕緣性,在生化、醫療與食品相關器具已有廣泛應用。模造成型之模仁表面如沉積 PTFE之薄膜,可使模仁具有極佳之脫模與離型效果,避免壓印或射出成型之高分子材料沾黏於模仁表面,特別是當進行微/奈米等級結構之成型時,此沾黏現象特別容易發生。然而,此PTFE薄膜一般是以蒸鍍、旋鍍、噴塗、浸漬等方式塗佈於模仁表面,則於脫模離型過程中PTFE薄膜容易產生剝離脫落現象,致使模仁的耐用性不佳,故必須提出其他有效的解決方案。 因此,本研究在化學鍍(無電鍍)(electroless plating)鎳磷合金(Ni-P alloy)的程序中,加入0.2 μm之PTFE顆粒,以進行Ni-P/PTFE複合層之製備。此複合層在應用時,可兼具鎳磷合金優異之硬度與耐磨耗性,以及PTFE膜之低摩擦係數、超撥水性、高抗沾黏等特性。此外,由於PTFE顆粒均勻地鑲嵌於鎳磷合金鍍層內部與表面,顆粒具有不易脫落的特性,可明顯改善僅PTFE塗覆於模仁表面,所造成之模仁耐用性不佳的缺點。化學鍍實驗中分別控制鍍液pH值、操作溫度,PTFE顆粒添加量、界面活性劑FC-134濃度等參數,探討Ni-P/PTFE複合層之析鍍速率、複合層中PTFE之沉積量、微硬度的影響,以及與抗沾黏、自潔性、防污性功能相關之接觸角特性。 實驗結果顯示鍍浴的pH值必須控制在4.80-4.92範圍內,以維持鍍液的穩定性。溫度的提升,析鍍膜可獲得較佳之接觸角度,但隨著浴溫的增加,析鍍速率反而會減少,例如,在85 ℃操作條件下鍍層的接觸角為113.47o、鍍率為15.8 m/hr,95℃時接觸角為146.29o、鍍率為5.7 m/hr。析鍍時間與沉積厚度呈線性關係,時間愈長可得較厚之薄膜,但鍍液中PTFE含量超過7.5 cc/L,沉積速率受到限制反而減緩。杜邦公司(Du Pont)的PTFE懸浮液,其鍍層品質深受界面活性劑FC-134的影響,其最佳條件為95 ℃鍍液含300 mole/L FC-134、PTFE含量7.5㏄/L、化鍍20 min,可得接觸角度140.01°,鍍層厚度6.5 m、平均硬度173.54 Hv。使用日本World Metal Co, LTD 的PTFE懸浮液,其鍍液可以不使用FC-134,在95℃浴溫、PTFE含量7.5㏄/L、化鍍20 min的最佳條件下,可得接觸角度147.70°,鍍層厚度5.5 m、平均硬度160.80 Hv。目前的研究進度已獲得超疏水性之Ni-P-PTFE複合層,並應用析鍍於具有微結構之Ni-Co模仁表面,可得接觸角141.42°,且實際進行熱印壓模(Hot embossing)之測試,經過壓膜與脫膜實驗後,量測接觸角為137.89°。因此,本研究所製備之Ni-P-PTFE複合層有抗沾黏的能力,可助Ni-Co模仁之離型性效果。
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    石墨烯應用於染料敏化太陽能電池之研製
    (2016) 賴禹承; Lai, Yu-Cheng
    本研究主要分為兩個目的,第一個主要是利用常壓化學氣相沉積法(Atmospheric pressure chemical vapor deposition, APCVD)在大面積銅箔(20 cm * 30 cm)成長出品質均勻之石墨烯。透過拉曼光譜分析已證實可成長出I2D/IG比值為2~4左右之單層石墨烯(Single-layer graphene, SLG)。若將製程優化,期望能應用在染料敏化太陽能電池(Dye-sensitized solar cell, DSSC)的電極。第二個目的是透過化鍍技術,在機械剝離法所製備高品質石墨烯表面複合鉑(Pt)及鉑釕合金(PtRu)奈米顆粒,並用來作為DSSC之對電極材料。藉由Pt及PtRu奈米顆粒之高比表面積(High specific surface area),以及石墨烯與Pt之電極催化特性,以提升整體DSSC之轉換效率。化鍍製程是先將Pt之前驅物六氯鉑酸氫、釕前驅物氯化釕與石墨烯,加入還原劑乙二醇、緩衝溶液乙酸-氫氧化鈉,分別製作出石墨烯/Pt及石墨烯/PtRu複合材料,並將複合材料滴佈於導電玻璃基板上形成對電極。本研究所製備出之複合材料透過SEM、EDS及TEM量測,證實已成功將Pt及PtRu均勻複合於石墨烯表面,從結果得知石墨烯/Pt粒徑分布為1.5 nm~5.0 nm,平均在3.5 nm~4.0 nm占最多,其平均電阻值為2.73 Ω;而石墨烯/PtRu粒徑則是分布在2~4 nm,平均在2.5 nm占最多,其平均電阻值為6.44 Ω。經封裝組合成DSSC元件後,比較濺鍍法製備Pt膜、單純石墨烯膜、石墨烯/Pt及石墨烯/PtRu四種電極的轉換效率,分別為1.52 %、0.64 %、2.08 %、1.35 %。實驗結果顯示,石墨烯結合Pt後因為電性及催化特性較好,因此具有較高轉換效率,而在石墨烯/PtRu的部分也接近使用濺鍍法製備Pt膜所得到之轉換效率,透過簡易化鍍方法來製備複合材料,可減少製程所需成本,以及提升整體DSSC之轉換效率。