學位論文
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Item 脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鈥鋅薄膜的探討： 結構、光學與磁性研究(2014) 蔡承佑; Cheng-You Tsai利用脈衝雷射沉積法製備氧化鋅摻鈥薄膜，鈥的原子莫耳濃度介於3~30%之間，沉積於c方向的藍寶石基板。鍍膜環境氧氣壓力為3×10-2mbar，基板溫度為750℃。部分樣品在溫度650℃進行一小時的退火。拉曼散射光譜顯示僅有濃度5%退火處理後的Ho樣品產生合金相。光致螢光光譜能將大部分的樣品分析出鋅空缺、鋅間隙以及鋅錯位的缺陷發光訊號，而整體發光強度隨著Ho摻入濃度的上升而增強。所有樣品在5K及300K外加磁場下的量測下表現皆為順磁性。Item 脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鉺薄膜的探討:結構、光學與磁性研究(2015) 周楷傑; Chou, Kai-Chieh利用脈衝雷射沉積法製備摻雜鉺的氧化鋅薄膜，在3×〖10〗^(-1)及3×〖10〗^(-3)mbar兩氧壓下用蓋板法與銀膠法固定基板加熱。XPS成分分析利用Er離子面積計算薄膜比例與靶材比例相近。X光繞射譜中，摻雜Er濃度越高，在低氧壓下兩製備法的 ZnO結晶品質越差且c軸晶格常數越大，而高氧壓下兩制備法的ZnO結晶品質越差且c軸晶格常數先變小在變大。蓋板法在不同氧壓下製備氧化鉺鋅薄膜，高氧壓下薄膜整體結晶品質比低氧壓佳。 拉曼光譜中，低氧壓只有蓋板法可觀察到ZnO的E_2 (high)及E_2 (low)的振動模式;高氧壓下兩製備方法皆有ZnO E_2(low)且ZnO有強烈E_2(high)訊號，Er 3at.%螢光效應最強。PL光譜顯示近能隙發光強度隨著Er濃度上升而下降，缺陷發光則隨Er濃度上升而增加，低氧壓PL光譜由近能隙、鋅空缺、鋅間隙所貢獻，高氧壓PL光譜由近能隙、鋅空缺、鋅間隙、氧空缺、氧間隙所貢獻。SQUID m-H圖顯示室溫ZnO無磁性，其他濃度氧化鉺鋅薄膜為順磁性，而低溫氧化鉺鋅薄膜為順磁性。