學位論文

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Subject: search.filters.subject.Ho

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    脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鈥鋅薄膜的探討： 結構、光學與磁性研究
    (2014) 蔡承佑; Cheng-You Tsai
    利用脈衝雷射沉積法製備氧化鋅摻鈥薄膜，鈥的原子莫耳濃度介於3~30%之間，沉積於c方向的藍寶石基板。鍍膜環境氧氣壓力為3×10-2mbar，基板溫度為750℃。部分樣品在溫度650℃進行一小時的退火。拉曼散射光譜顯示僅有濃度5%退火處理後的Ho樣品產生合金相。光致螢光光譜能將大部分的樣品分析出鋅空缺、鋅間隙以及鋅錯位的缺陷發光訊號，而整體發光強度隨著Ho摻入濃度的上升而增強。所有樣品在5K及300K外加磁場下的量測下表現皆為順磁性。
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    氧化鈥鋅/氧化鋅雙層膜結構之物性研究
    (2014) 莊桓嘉; Chuang Huan-Chia
    本論文以脈衝雷射蒸鍍法於c平面藍寶石基板上先沉積一層氧化鋅緩衝層，再鍍上一層氧化鈥鋅薄膜，探討緩衝層在不同溫度、厚度下對氧化鈥鋅薄膜的影響。 以X光繞射檢測結果顯示我們的氧化鈥鋅薄膜為c軸取向，沒有發現任何其他結晶相。且在參雜高濃度鈥元素時引入氧化鋅緩衝層有助於氧化鈥鋅薄膜品質的提升。以PL檢測結果主要的缺陷發光有鋅空缺和鋅間隙，且隨著樣品檢測溫度的降低薄膜發光有增強的趨勢。SQUID檢測結果顯示氧化鈥鋅薄膜在室溫和T=5K時皆為順磁性。
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    脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鈥鋅薄膜的探討：結構、光學與磁性研究
    (2016) 葉育廷; Yeh, Yu-Ting
    利用脈衝雷射沉積法製備摻鈥的氧化鋅薄膜(氧化鈥鋅薄膜)，鈥(Ho)的濃度為0到10%之間，沉積於c指向的藍寶石基板。脈衝雷射功率為2.0 J/cm2 ，鍍膜環境氧氣壓力為3×10^-1 mbar，基板溫度為750 oC。本論文探討氧化鈥鋅薄膜的成份，結構性質，光學性質，磁性以及各種特性間的關聯。 利用XPS能譜進行成分分析，分析薄膜中Ho的濃度。X光繞射光譜中，隨著Ho摻雜濃度越高，薄膜結晶品質越差，c軸晶格常數越小。拉曼光譜中，可觀察到氧化鋅E2-low (99 cm-1)及E2-high (438 cm-1)的振動模式，且在Ho = 3%有螢光效應出現。PL光譜中，分析發光來源為近能隙、鋅空缺、鋅間隙、氧空缺所貢獻。橢圓偏振儀及穿透光譜顯示能隙隨著Ho摻雜比例上升而增加。超導量子干涉磁量儀測定結果顯示室溫及低溫的氧化鈥鋅薄膜皆為順磁性。